ניקוי אולטראסוני -- מיתוסים?

[AK1]

נתקלתי בוידאו הבא:

בקיצור, מה שהוא אומר כולל:

1. האם ניקוי אולטראסוני עלול לפגוע בוויניל? עקרונית כן. זה מסתמך על מחקר שנעשה בחומר אחר -- לא הצלחתי לקלוט בדיוק איזה, אולי Noryl -- במים מזוקקים בטמפרטורה של 40°C ובתוספת חומרים פעילי שטח (surfactants) להקטנת מתח-הפנים של המים -- שאז ראו במיקרוסקופ פגיעה בחומר, וגם היה אובדן משקל בתלות הפוכה לתדר. אבל אין ביטחון בזה בקשר לוויניל
   
   
2. סינון -- איזה סינון כדאי לבצע? הוא טוען שהלכלוך שהניקוי מוריד מהתקליט או שוקע במים, ו/או נמצא איפשהו באמצע, ו/או מעל פני המים. חשוב לסנן דווקא את מה שיש על פני המים, כי זה מה שילכלך את התקליט מחדש כשמוציאים אותו מהמים.
   
   
3. האם תוספת surfactants חיונית לתהליך? לא, ואם מוסיפים אותו, הוא נדבק לתקליט ולמכונה ואי אפשר להסיר אותו ע"י שטיפה. עם זאת, תוספת כזו כן הופכת את הניקוי ליעיל יותר, כך שזה balancing act
   
   
4. האם ויניל דוחה מים? לא
   
   
5. כמה זמן יש לנקות אולטרסונית? לא יותר מ-5 דקות, ואם נדרש יותר זמן, צריך לשנות משהו, כמו להוסיף מעט surfactant או להחליף את סוגו, לסנן, לחמם מעט את המים, ו/ואו לבצע ניקוי מקדים. לטענתו (ולדעתי), ניקוי אולטראסוני אינו מיועד לנקות הרבה ליכלוך גס, אלא את הלכלוך העדין ששיטות אחרות אינן מנקות.

 

[ayal30]

מעניין תודה